安芸 真奈( AKI, Mana ) 1960年 高知県生まれ | ||
1982年 | 高知大学卒業 | |
作品収蔵 | いの町紙の博物館(高知県)、黒部市立美術館(富山県)、 日本美術センター(ポーランド)、ティコティン美術館(イスラエル) |
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2008年 |
高知国際版画トリエンナーレ[02,05](いの町紙の博物館、高知) |
個展[96,98,00,02,04,06](養清堂画廊、東京) | |
2006年 |
Internationale Grafiek Manifestatie /国際版画宣言展(ホーグザンド、オランダ) |
2004年 |
第3回ラテンアメリカ国際版画ビエンナーレ展 /特別展示:日本版画展 (ブエノスアイレス、アルゼンチン) |
2003年 |
“紙と版画”日本・オランダ版画展(Zaans Museum、オランダ) |
Interconnection /日本・アルバータ版画交流展(ギャラリーサンチュン、カルガリー、カナダ) | |
クラコウ国際版画トリエンナーレ /特別展:日本・ポーランド(日本美術センター、ポーランド) | |
2002年 | 50周年記念 現代日本版画展(ティコティン美術館、イスラエル) |
日本の木版画(ULSTER大学/他、イギリス) | |
2001年 | あおもり版画トリエンナーレ2001(青森) |
1999年 | ぶどうの国の国際版画ビエンナーレ[招待出品](山梨県立美術館、山梨) |
1998年 | “Space”現代日本版画展(ティコティン美術館、イスラエル) |
1997年 | ポーランド・日本の現代版画交流展(ヒルサイドフォーラム、東京) |
第1回多摩国際版画交流展 /ポーランド・日本(パルテノン多摩、東京) | |
1989年〜 | 日本版画協会展[毎年出品](東京都美術館、東京) |
眠り 2008年
技法:木版画
イメージサイズ:H 67.0 x W 91.5 cm
とき放つ 2006年
技法:木版画
イメージサイズ:H 67.0 x W 91.5 cm
見え隠れしながら 2006年
技法:木版画
イメージサイズ:H 91.5 x W 54.5 cm
浮遊 X 1997年
技法:木版画
イメージサイズ:H 130.0 x W 90.7 cm